【摘 要】
：
具有“三明治”结构的D/M/D(dielectric/metal/dielectric)透明导电多层膜,基于其中金属功能Ag 膜中自由电子的导电性以及自由电子与电磁辐射的相互作用,具有低电阻,对可见光透明,但对红外光谱强烈地反射的光谱选择性,起到隔断辐射的作用.其中介质层起到增透以及调节膜系颜色的作用,而且外介质层保护内部Ag 膜,内介质层作为衬底层阻止玻璃基体中的碱离子向银膜中扩散.衬底层影响A
【机 构】
：
中国建筑材料科学研究总院,绿色建筑材料国家重点实验室,太阳能与建筑节能玻璃材料加工技术北京市重点实验室,北京,100024
论文部分内容阅读
具有“三明治”结构的D/M/D(dielectric/metal/dielectric)透明导电多层膜,基于其中金属功能Ag 膜中自由电子的导电性以及自由电子与电磁辐射的相互作用,具有低电阻,对可见光透明,但对红外光谱强烈地反射的光谱选择性,起到隔断辐射的作用.其中介质层起到增透以及调节膜系颜色的作用,而且外介质层保护内部Ag 膜,内介质层作为衬底层阻止玻璃基体中的碱离子向银膜中扩散.衬底层影响Ag 膜的结构,选取合适的衬底层材料以及优化工艺对于指导生产实际至关重要,如何评判衬底层对功能层Ag 膜的作用是首要议题.本文采用具有六方纤维矿结构的ZnO 作为衬底层,制备ZnO/Ag/SiNx 多层膜,研究反应溅射制备ZnO 的氧气流量对Ag 膜的影响.通过无损高精度的椭圆偏振光谱仪测试线偏振光经过多层膜样品后反射光的偏振状态,通过不同氧气流量制备的ZnO 作为衬底层时Ag 膜的椭偏参数变化来研究衬底层对Ag 膜的作用.分别拟合单层膜后建立组合模型,能够很好地对多层膜进行拟合,通过Drude 模型中的参数能够获得Ag 膜的载流子浓度和迁移率.拟合结果表明,ZnO 衬底层的存在显著提高Ag 膜的迁移率,随氧气流量的提高迁移率先升高后降低,载流子浓度几乎不变.XRD 对多层膜的结构分析表明,ZnO 衬底层提高Ag 膜的结晶程度,使其发生(111)择优取向,且衍射峰强度随氧气流量先升高后降低,Ag 膜结晶程度的提高有利于载流子迁移率的提高,这与椭偏拟合获得的迁移率变化结果相吻合,说明椭圆偏振光谱法能够通过物理模型中参数的拟合获得衬底层ZnO 对Ag 膜的作用关系,并由此获得最佳的ZnO 沉积工艺.
其他文献
大型空间环境模拟器(以下简称环模设备)用于在地面模拟太空真空、冷黑及外热流环境，是卫星、飞船等航天器开展热平衡热真空试验必不可少的重要设备.环模设备通常由容器系统、真空系统、低温系统、测控系统、氦系统等多个分系统组成.真空系统用于获得卫星热试验用的容器真空度，通常要求真空度优于1.3ⅹ10-3Pa.真空系统一般包括粗抽真空系统、高真空系统、分子泵检漏系统、低温泵再生系统、残余气体分析系统以及上述各
大功率激光技术的发展，要求光学系统具有更强的抗损伤能力，光学薄膜是激光系统中重要而易损的薄弱环节。寻求光学特性良好、抗激光损伤能力强的高折射率材料有着重要的工程意义。本文针对LaTiO3 这种高折射率低吸收镀膜材料，采用射频溅射方法沉积，在1064nm激光测试条件下研究了激光辐照下薄膜损伤特性的变化，寻找最优沉积工艺。研究结果表明，影响LaTiO3 薄膜激光损伤阈值变化显著程度因素按大到小分别是：
本文采用在真空蒸镀的Cu薄膜上喷雾热解InCl3和SC(NH2)2前驱液的方法,制备出CuInS2(CIS)薄膜.通过X射线衍射、紫外-可见分光光度计、扫描电子显微镜和霍尔效应测试仪等仪器对薄膜进行了表征.研究表明,该方法制备出的CIS薄膜,表面均匀且无裂纹缺陷,薄膜内不存在CuXS、In2O3、In2S3等杂相.CIS薄膜为黄铜矿结构,其结晶性能受制备过程中Cu薄膜厚度的影响,Cu含量较多时,薄
透射式微焦点 X 射线管具有高 X 射线产生效率和高辐照通量密度的特点，但由于聚焦电子束的轰击集中于阳极靶材上微米或亚微米级尺度范围内，靶材微区散热能力已成为限 制点 X 射线源的强度和使用寿命的关键科学问题之一。因此，必须深入研究阳极靶材料的 物理属性、优化阳极组件结构，在解决阳极靶散热及其出光性能可靠性问题的同时，实现高 亮度、小焦斑 X 射线源。本工作依据理论分析，通过蒙特卡罗法 MCNP
釆用磁控多靶共溅射的方法通过改变ZrB2功率在硅基底上制备Zr-B-Nb-N薄膜,主要研究不同ZrB2 的功率对复合膜结构以及性能的影响.应用XP-2 表面轮廓仪测量镀层厚度和残余应力,用广角的x 射线衍射(XRD)测量薄膜的结构以及晶体的晶向,用扫描电子显微镜(SEM,su8010,Hitachi,Japan)观察Zr-B-Nb-N 的薄膜的微观形貌.断面形貌通过JEM-2100 电子显微镜(T
低带隙、富硒、贫硫的 Cu2ZnSn(S,Se)4(CZTSSe)吸收层薄膜凭借材料本身较低的缺 陷浓度,一直比单纯的 Cu2ZnSnS4(CZTS)和 Cu2ZnSnSe4(CZTSe)吸收层材料在器件光电转换 效率方面占有很大的优势.CZTSSe 吸收层薄膜的制备工艺一般是在 CZTS 薄膜的硒/硫化的 基础上进行.然而,一般的硒化过程使薄膜容易生成硒化物组分并且流失,严重影响 CZTSSe
采用超高真空射频磁控溅射技术，在Si(100)基底上制备了相同厚度不同调制周期的HfN/HfB2 多层膜，利用X 射线衍射、扫描电子显微镜、xp-2 台阶仪、纳米压痕仪及摩擦试验机分析测试了多层膜的结构，厚度，内应力，力学性能及室温下摩擦性能等；重点研究了在不同调制周期下多层膜力学性能的变化。
通过磁控溅射系统制备出一系列调制周期相同的VN/TiB2 纳米多层膜，通过改变调制比研究其对薄膜性能的影响.利用X 射线衍射分析(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和纳米压痕硬度计表征了薄膜的显微结构、调制结构和机械性能.结果 表明：VN/TiB2 多层膜具有良好的周期性调制结构，调制界面清晰，其硬度出现异常升高，明显高于单层膜的机械性能.在调制比为5：1 出现了硬度峰值(39.3 GPa)，多层
基于高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电区域的粒子平衡和能量平衡,并考虑高功率密度下放电跑道上形成局部电势峰对离子流出的增强效应,建立了描述HiPIMS 放电的等离子体整体模型。将放电电压和电流实验测量值作为输入参数,研究了HiPIMS 放电模型对不同阴极材料(Cu,Cr,Ti,V 和C)的响应,得到不同阴极材料的HiPIMS 放电特性及等离子体参数变化。结果 表明,随阴极材料溅射率的提高,溅射
随着无铅钎料在波峰焊接中的广泛应用,焊接设备中不锈钢工件在焊接过程中被腐蚀,严重影响设备的正常使用,同时与钎料接触的工件发生反应性润湿,导致工件离开钎料槽时带出大量钎料.针对这一问题,本文采用磁过滤阴极弧的方法在不锈钢试样表面制备了均匀、致密的Ti/TiC 薄膜.对薄膜的形貌、结构、显微硬度、耐磨性能、电化学性能和抗沾锡性能进行研究.结果 表明：硬度由200HV 到最大提高到1335HV,摩擦系数