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本文研究了在磁控溅射中溅射气压、溅射电压(溅射功率)与金属Au、Ta薄膜应力的关系,分析了相关的机理,给出了一种用磁控溅射法制备低应力Au、Ta薄膜的方法,就应力的产生因素作了一些探讨.
磁控溅射制备低应力金属膜的工艺研究
【摘 要】
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本文研究了在磁控溅射中溅射气压、溅射电压(溅射功率)与金属Au、Ta薄膜应力的关系,分析了相关的机理,给出了一种用磁控溅射法制备低应力Au、Ta薄膜的方法,就应力的产生
【机 构】
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南京电子器件研究所,南京,210016
【出 处】
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中国微米纳米技术第七届学术年会
【发表日期】
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2005年期
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