沉淀法制备纳米非晶态MoS工艺研究

来源 :第十三届全国复合材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:prajana
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研究了制备纳米二硫化钼的前驱体纳米三硫化钼的制备工艺,主要涉及反应温度、溶液酸度、物料配比及溶剂体积等因素.利用单因素条件试验得出各因素对三硫化钼收率的影响规律,并通过正交试验得出制备MoS<,3>的优化工艺条件,利用X衍射仪与透射电子显微镜对优化工艺后的产物进行表征与评价,发现获得的MoS<,3>是非晶态MoS<,3>,其粒子大小大约在50nm左右.
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本文以含金属电路屏的电阻渐变吸波复合材料为研究对象,对电路屏结构尺寸、电路屏所处位置及吸波复合材料体系各结构层电磁参数及厚度等对吸波复合材料的吸波特性影响规律进行了研究,总结了改变参数后吸波性能的变化规律.研究结果表明:通过将电路模拟结构应用于吸波复合材料的设计中,可以使吸波性能得到较大程度提高.
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