【摘 要】
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X射线光谱成像(X射线单能成像)技术是研究Z箍缩等离子体形成特性的典型方法，并广泛应用于基于激光打靶、X-pinch等X射线光源的成像实验研究。多层膜对X射线的反射是采用布拉格反射的原理，为了在反射镜的各个位置都满足对特定光子能量的布拉格反射条件，需要使用横向梯度镀膜的多层膜元件。与采用对数螺旋晶体元件的X射线单能成像方法相比，该方法具有如下优势：1、多层膜反射镜的能带宽度较大，大大提高了X射线的
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X射线光谱成像(X射线单能成像)技术是研究Z箍缩等离子体形成特性的典型方法，并广泛应用于基于激光打靶、X-pinch等X射线光源的成像实验研究。多层膜对X射线的反射是采用布拉格反射的原理，为了在反射镜的各个位置都满足对特定光子能量的布拉格反射条件，需要使用横向梯度镀膜的多层膜元件。与采用对数螺旋晶体元件的X射线单能成像方法相比，该方法具有如下优势：1、多层膜反射镜的能带宽度较大，大大提高了X射线的光子通量；2、多层膜反射镜的反射面为平面，理论上无像差；3、多层膜反射镜的在线准直调节相对容易，等。同时，采用多通道同时成像，可实现宽光谱、多能点的X射线单能成像。
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