H13钢等离子渗氮(一)类金刚石膜(DLC)复合处理的性能研究

来源 :2009年薄膜技术高峰论坛暨广东省真空学会学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:limingminghappy
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研究了等离子渗氮-离子镀类金刚石膜复合处理工艺与未氮化离子镀类金刚石膜处理工艺对H13钢表面性能的影响,研究样品表面的硬度、膜/基结合强度、摩擦性能等.结果表明,经过等离子渗氮+镀类金刚石涂层复合处理的H13钢表面硬度、膜/基结合强度等均优于未氮化镀类金刚石涂层的样品.1采用离子氮化与离子镀DLC的复合处理方法可显著提高表面的硬度,氮化后镀DLC膜的硬度为HV0.025:2175,高于未氮化镀类金刚石膜的HV0.025:1380.氮化后镀DLC膜使得膜/基结合力得到大幅度提高,H13钢调质镀DLC的膜/基结合力仅为25N;氮化后镀DLC膜的膜/基结合力提高到55N.离子氮化后镀DLC膜的表面摩擦系数为0.12,具有良好的耐磨性能。
其他文献
1852年英国的Grove和1858年德国的Plucker分别在实验中发现通过溅射来沉积镀膜的方法.屈指算来溅射镀膜有100多年的历史.从上世纪六七十年代到目前,该项技术得到了前所未有的发展与应用.经过40-50年国内外专家的努力,在磁控溅射镀膜领域展开一系列研究,包括:靶材、基材、反应气体、阴极磁场分布强度、溅射电源等,并取得详细的数据,建立起相应的数据库.对透明导电薄膜、DLC硬质薄膜、AF功
会议
研发出阴极柱状电弧建立可控有限长度弧斑区、和弧斑区整体移动方向与速度的可控的新技术,大幅降低了电弧辐射热和以镀件间歇受热镀膜方式,实现了低温沉积.开发了大靶管大功率远靶/基距低温磁控溅射技术,可低于100度下沉积均匀优质镀层.上述两种新技术解决了长期以来在塑料件上离子镀膜变形的难题.
2002年丹普公司开发出国内第一套阳极层流气体离子源(GIS),多年来一直坚持不懈地进行技术完善、改进和创新.在多个应用领域取得了成功的应用和推广:GIS和磁控溅射(MS)相结合,丹普公司开发出发明专利技术(专利号:ZL200410097124.2):气体离子源增强磁控溅射反应镀膜(Gas Ion source Magnetron Sputtering chemical reactive depo
研究了等离子渗氮-离子镀类金刚石膜复合处理工艺与未氮化离子镀类金刚石膜处理工艺对CoCrMo合金组织结构及摩擦学性能的影响.结果表明:CoCrMo合金等离子渗氮表面生成一层CrN.DLC/CoCrMo和DLC/PN CoCrMo表面DLC薄膜都光滑致密.DLC/PN CoCrMo薄膜的硬度、结合力和摩擦磨损性能均优于DLC/CoCrMo薄膜,复合处理更适合于CoCrMo合金的表面强化处理;CoCr
采用多弧离子镀技术,利用纯Ti靶及TiAl合金靶在SKH51高速钢基本上沉积三种不同Al含量的TiN/Ti1-xAlxN复合多层涂层,利用材料表面性能测试仪、显微硬度计、扫描电镜、X射线衍射仪等研究了Al含量及多层结构对涂层形貌、相结构、显微硬度、膜基结合力的影响.结果表明:TiN/Ti1-xAlxN复合多层涂层均为柱状晶结构,断口形貌表现为短纤维状撕裂,随着Al含量的升高,涂层中大颗粒数量增加,
溅射深度剖析是将离子溅射与表面元素成分表征结合在一起的一种测量分析技术,其主要目的是为了获得薄膜材料中元素成分的深度分布。在广泛应用于溅射深度剖析定量分析的MRI模型基础上,首先引入了一个考虑择优溅射效应的参量.再假设原子混合长度和粗糙度同溅射深度相关,就可实现对近表层深度剖析中存在的原子间混合长度和粗糙化的非稳态效应的定量表征.在此基础上,对利用三种不同深度剖析技术(AES,XPS和SIMS),
本设计包括了带触摸屏的TFT彩色液晶显示屏及使用VC编写的PC应用程序,是以性价比高的工控芯片作为硬件平台,充分利用了电脑VC编程的优势,缩短了客户90%的多级触摸菜单编程设计及美工设计的开发时间.本设计充分利用了PC端软件的优势,开发出了一套切实可用的绘图、触控指令集,使客户从彩屏驱动及菜单设计中释放出来,能更专注于设备本身性能的开发。以此为基础推出的一系列高性能、高稳定性、低成本的中小尺寸TF
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