【摘 要】
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本文研究了高磷Ni-P合金的无电解镀镍溶液组成及工艺条件,通过X射线能谱仪、X衍射分析、DTA差热分析及电化学测试较系统地研究了高磷化学镀镍层的成分、结构和耐蚀性能.实验
【机 构】
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哈尔滨工业大学应用化学系(哈尔滨)
【出 处】
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'99第六届海峡两岸表面精饰联谊会
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本文研究了高磷Ni-P合金的无电解镀镍溶液组成及工艺条件,通过X射线能谱仪、X衍射分析、DTA差热分析及电化学测试较系统地研究了高磷化学镀镍层的成分、结构和耐蚀性能.实验表明,溶液中配位体的浓度、Ni<2+>浓度及pH值是影响镀层磷含量的主要因素.在一定的工艺条件下,所获得的Ni-P合金镀层磷含量为12-14wt﹪,沉积速率为10.5μm/h,镀层为非晶态结构.镀层在约280℃下开始晶化,350℃晶化结束,最后转变为主要Ni<,3>P、γ-Ni共溶体和少量Ni<,2>P的混合组织.研究发现,不同配位体体系获得的Ni-P(HP)镀层,耐蚀性也不同,Ni-P(HP)镀层在酸和盐介质中有良好的耐蚀性,热处理后高磷镀层耐蚀性降低.
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