Ta2O5标样的研制及其氩离子溅射速率的国内会测

来源 :上海市真空学会第七届学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fleur0512
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  在表面分析领域内为了减少物质的溅射速率的离散性,本文用阳极氧化法研制了Ta2O5标样.本文具体介绍了Ta2O5研制的工艺过程,用绝对法、秤重法及俄歇电子谱三种不同的方法对其厚度进行了定值.文章也报导了在国内对Ta2O5溅射速率会测的结果,得到了溅射速率与离子流密度、电离电压之间相互关系曲线.最后对本文研制的Ta2O5标样的△z与D关系和国际上最近发表的数据相对比.
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