【摘 要】
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用X射线光电子能谱(XPS)研究了射频碰控溅射法在玻璃基表面上制备的TbFeCo磁光记录薄膜的表面成分随溅射氩气压的变化关系,以及表面Fe、Co元素的氧化情况.结果表明:在较高的
【机 构】
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武汉工业大学材料复合新技术国家重点实验室(湖北武汉)
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用X射线光电子能谱(XPS)研究了射频碰控溅射法在玻璃基表面上制备的TbFeCo磁光记录薄膜的表面成分随溅射氩气压的变化关系,以及表面Fe、Co元素的氧化情况.结果表明:在较高的氩气压下薄膜中Tb元素的成分比例较高;随着氩气压的降低,薄膜中Tb元素的成分比例逐渐地减少,而Fe和Co元素的成分比例逐渐增加,且Fe2p、CO2p的XPS高分辨谱中显示出振激峰、表明此时已有少部分的Fe、Co被氧化;而在低氩气压下,Fe2p、Co2P的XPS高分辨谱中显示出振激峰.
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