【摘 要】
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不同氮分压下利用多弧离子镀技术在U、Si基体上制备了Ti/TiN多层薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)分析了U基薄膜的微观组织结构，扫描电镜(SEM)观察了其表面形貌。结果表明：当N2分压过低时(≤×10-3pa)，薄膜为纯Ti相结构。当分压在2×10-22pa～5×10-1Pa之间变化时，为Ti、TiN双相结构，N2分压也影响着各衍射峰的强弱变化。Si基薄膜的界面场发射扫描电镜(FE-SEM)分析
【机 构】
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表面物理与化学国家重点实验室,四川省绵阳市718信箱35分箱,621907 大连理工大学三束国家重
【出 处】
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中国核学会核材料分会2007年度学术交流会
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不同氮分压下利用多弧离子镀技术在U、Si基体上制备了Ti/TiN多层薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)分析了U基薄膜的微观组织结构，扫描电镜(SEM)观察了其表面形貌。结果表明：当N2分压过低时(≤×10-3pa)，薄膜为纯Ti相结构。当分压在2×10-22pa～5×10-1Pa之间变化时，为Ti、TiN双相结构，N2分压也影响着各衍射峰的强弱变化。
Si基薄膜的界面场发射扫描电镜(FE-SEM)分析显示所得的多层膜呈犬牙交错的层状、柱状结构生长，薄膜厚度随氮分压的增加有所减小，柱状晶结构细化。摩擦磨损实验测定了薄膜的磨损性能，随氮分压的上升，摩擦系数有所降低，耐磨性能改善。利用电化学极化实验在0.5μg/gCl-溶液中测试了U基体薄膜耐蚀性能，研究了其腐蚀机理，并分析了薄膜结构与性能之间的关系。
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钯因其显著的氢同位素效应、抗毒化及良好的固氦特性，已广泛应用于氚工艺中，但随着工作时间的延长，钯中衰变3He的产生，将影响其应用性能。掌握这方面知识，对钯的工程应用和设计有指导意义。本文综述了氚老化对钯的P-C-T曲线、力学性能、微观结构的影响，及3He在钯中的微观行为。结果表明：氚老化导致坪压降低、坪斜增加、氚尾增加，力学性能下降；衰变3He聚集形成氦泡，导致晶格膨胀，而且在钯中会形成自间隙原子
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