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本文从摩擦学的角度讨论了与硬盘系统相关的磁头/盘表面与界面的微/纳米设计、加工和改性技术的研究进展,并讨论了磁介质保护膜、磁盘润滑膜、磁头表面改性膜以及磁头/磁盘之间的微污染特性.另外,介绍了非均质多组元磁头表面纳米级抛光技术.
磁头表面加工和改性研究
【摘 要】
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本文从摩擦学的角度讨论了与硬盘系统相关的磁头/盘表面与界面的微/纳米设计、加工和改性技术的研究进展,并讨论了磁介质保护膜、磁盘润滑膜、磁头表面改性膜以及磁头/磁盘之间的微污染特性.另外,介绍了非均质多组元磁头表面纳米级抛光技术.
【机 构】
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清华大学摩擦学国家重点实验(北京)
【出 处】
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中国科学院《技术科学论坛》学术报告会
【发表日期】
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2002年12期
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