杂多酸HPWMoO超细纤维的合成与表征

来源 :第五届中国功能材料及其学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wxsshj
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采用高压静电纺丝手段制备了含H<,3>PW<,11>MoO<,40>的聚乙烯醇(PVA)是超细纤维材料,以此纤维为基础,通过程序升温的方法将此材料在350℃下焙烧4h,制得了纯H<,3>PW<,11>MoO<,40>纤维.借助于红外光谱(IR)、X-射线粉末衍射(XRD)以及扫描电镜(SEM)等手段对材料进行了表征.结果表明,焙烧后的H<,3>PW<,11>MoO<,40>纤维平均直径较PVA/H<,3>PW<,11>MoO<,40>纤维材料的直径有较大幅度的降低,但与原料H<,3>PW<,11>MoO<,40>相比结晶度下降.
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本文提出基于电力线通信(PLC)的电厂信息处理平台的设计,利用实时数据库将分散控制,实时监控和管理信息系统相融合,通过电力线通信实现全厂信息共享,以提高电厂运行的安全性和经济性.
采用溶胶-凝胶技术,通过酸/酸二步法控制实验条件,由于表面活性剂具有特殊的表面活性性能,实验中采用表面活性剂十六烷基三甲基溴化氨(CTAB)为模板剂,正硅酸乙酯为硅源,甲基三乙氧基硅烷为有机硅烷,以及二次去离子水,盐酸为催化剂等原料制备SiO-MTES(摩尔比1:1.15)前驱体溶胶.通过简单提拉迅速蒸发溶剂等方法制备二氧化硅-甲基三乙氧基硅烷的有机-无机复合薄膜,测得的红外透射光谱表明所制备的薄
采用液相沉积法,在90℃下制备了纳米锐钛矿型TiO薄膜.采用XRD、UV透射光谱、薄膜表面接触角的测量、厚度的测量及亚甲基蓝降解等手段研究了TiO薄膜的性能.结果表明:所制备的TiO薄膜具有较好的超亲水特性及光催化活性,在可见光范围内具有较好的透明性,其平均透光率在80﹪以上.
以无机盐AlCl·6HO为初始原料,采用溶胶-凝胶法通过调节pH值控制溶胶体系的稳定性制备出具有耐高温、耐腐蚀性γ-AlO微孔膜,利用差热、BET和SEM对薄膜的组成、结构和表面形貌进行了分析表征.并对溶胶制备过程中的主要影响因素以及膜制备过程中膜性能的各种影响因素进行了深入探讨.
选用不同材料做衬底,使用溶胶-凝胶法制备纳米TiO薄膜,并采用XRD、AFM、UV、SPS对薄膜进行表征.在500℃以上焙烧2h后,即可获得锐钛矿型TiO薄膜,粒径15nm左右,紫外吸收光谱分析表明,薄膜在220~350nm处有较强的紫外吸收.
采用溶胶-凝胶法添加聚乙二醇表面活性剂制备了TiO纳米粒子,采用滚压涂敷法在玻璃基底上制得TiO纳米多孔薄膜,采用吸附法对多孔薄膜表面进行染料敏化处理.染料敏化处理前后,薄膜的微结构没有改变,但薄膜表面的成分发生了改变.对薄膜进行了XPS,AFM,SEM和XRD分析.结果表明,TiO纳米晶薄膜中纳米粒子晶型为锐钛矿,薄膜具有网络多孔结构,TiO粒子的粒径在20~30nm间,薄膜中空穴的孔径在50~
用激光分子束外延技术在SrTiO(001)衬底上外延生长SrTiO/BaTiO多层膜,通过反射式高能电子衍射(RHEED)原位实时监测并结合原子力显微镜(AFM),研究了不同基片温度下所生长薄膜的表面平整度,利用X射线衍射(XRD)对外延薄膜进行了结构分析,结果表明薄膜具有二维生长模式,在基片温度为380~470℃之间生长的薄膜具有原子级光滑,并且具有完全C轴取向.同时运用X射线光电子能谱(XPS
用激光脉冲沉积技术(PLD),以N型(100)Si为基底在300℃下制备100nm非晶STO薄膜,分别用常规退火(CFA),快速退火(RTA)以及激光诱导晶化(LIC)处理将其转化多晶薄膜,用XRD测定薄膜相组分和结晶质量,用AFM观测薄膜表面微结构.比较不同工艺退火对薄膜结晶品质的影响并阐述了各自形核结晶的机理.
采用两步氧化法制备了多孔氧化铝模板(AAO),并利用AAO结合用电化学诱导溶胶-凝胶法制备了锐钛矿型的TiO纳米线阵列,探讨了形成TiO纳米线阵列的生长机理.发现TiO纳米线是由Au基底沿着孔洞逐步向上生长,直接生成纳米线,因而可以通过控制氧化铝模板的尺寸和电化学沉积的时间来控制纳米线的长径比.
采用水热合成方法制备出外径约8nm,壁厚为1nm的纳米管,以TEM、XRD和TG等分析手段对不同工艺条件下获得的产物进行了表征,对它们的热稳定性进行了测试.研究结果表明,纳米管是在NaOH水热处理过程中形成的,而不是在清洗过程中形成的.其形成机理可能是纳米氧化钛颗粒在强碱作用下形成的NaTiO片状物经过卷曲而成短纳米管,通过溶解-吸收机理,逐渐长成长纳米管.但清洗溶液的pH值对生成的纳米管的成分和