【摘 要】
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碳纳米管的诸多优越性能，使其在多个领域得到了关注。碳纳米管电流承载能力可以达到10~(10)A/cm~2，和金刚石相媲美的热导率，具有很好的热稳定性。在IC互连方面备受关注，被誉为最有可能的下一代互连材料。同时，碳纳米管的高频特性可以达到50GHz，具有非常快的充放电速率，在电容器等储能器件中的应用也受到了广泛的关注。然而，碳纳米管的生长方式与生长机理导致了其顶部封闭以及空间占有率过低的现象，这在
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碳纳米管的诸多优越性能，使其在多个领域得到了关注。碳纳米管电流承载能力可以达到10~(10)A/cm~2，和金刚石相媲美的热导率，具有很好的热稳定性。在IC互连方面备受关注，被誉为最有可能的下一代互连材料。同时，碳纳米管的高频特性可以达到50GHz，具有非常快的充放电速率，在电容器等储能器件中的应用也受到了广泛的关注。然而，碳纳米管的生长方式与生长机理导致了其顶部封闭以及空间占有率过低的现象，这在一定程度上限制了碳纳米管在互连方面的应用。本文采用化学机械抛光，金属互补填充等手段对碳纳米管的
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