【摘 要】
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四极质谱仪在气体分压强的分析上有很广泛的应用,主要运用于工艺腔体的检漏和本底状态的监控。CVD(化学气相沉淀)的clean (清洁)环节是工艺环节非常重要的一环,是最有潜力优
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四极质谱仪在气体分压强的分析上有很广泛的应用,主要运用于工艺腔体的检漏和本底状态的监控。CVD(化学气相沉淀)的clean (清洁)环节是工艺环节非常重要的一环,是最有潜力优化的,不论是气体的节省和工艺时间的节省都可以最大程度的增大产能。本文通过使用四极质谱仪,选择clean的反应物或者生成物,相对定量分析其中的气体成分,可以动态判断CVD清洁过程的刻蚀终点的时间。通过试验论证使用四极质谱监控clean的刻蚀的可行性,如何实现工艺的确定终点的选择,尝试不同的算法,包括动态实时跟踪绝对量的差值和相对量变化的斜率,分析探讨在实际应用中可能会遇到的问题。最终在大规模生产中,基于分析相对量变化的斜率的方法被采用并提高了产能。
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