HFCVD系统温度场和流场的仿真研究

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【摘要】

：

在热丝化学气相沉积(Hot Filament Chemical Vapor Deposition,简称HFCVD)金刚石膜的系统中,系统温度场和流场的分布直接决定着金刚石膜的形核密度和生长速率。本文对影响系统温度场和流场的相关工艺参数进行了系统的模拟计算,确定了生长大面积优质金刚石膜的工艺参数优化值,主要工作如下:1.选取氢气作为HFCVD系统中流场的主要研究对象,经计算该流场的雷诺数Re=979

【作者】

：

李磊

【机构】

：

南京航空航天大学

【发表日期】

：

2007年03期

【关键词】

：

HFCVD 金刚石膜衬底温度场系统流场耦合模型有限元

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