随着氨基酸型缓蚀剂愈发受到重视,对氨基酸型缓蚀剂的缓蚀机理、影响因素等方面的研究,成为学术发展的热点。本文利用光电化学、仪器分析手段,对三种氨基酸型缓蚀剂L-半胱氨酸、S-苄基-L-半胱氨酸、S-乙基-L-半胱氨酸的缓蚀性能、作用机理以及光照对缓蚀剂性能的影响进行了研究。实验结果表明,L-半胱氨酸和S-苄基-L-半胱氨酸均为阴极型缓蚀剂,光照可以促进其在耐候钢Q450表面的吸附,提升其缓蚀作用效果。M-S测试结果表明,吸附缓蚀剂后,金属表面膜层表面N型半导体特性,光照条件下施主浓度Nd减小,且平带电位Efb正移。核磁共振测试表明,光照不会破坏L-半胱氨酸的结构。红外光谱和拉曼光谱测试表明,L-半胱氨酸是通过巯基和氨基与铁原子键和的方式在金属表面吸附成膜的。L-半胱氨酸为缓蚀剂的金属样品表面的腐蚀产物主要有α-Fe2O3、γ-Fe2O3、Fe3O4和γ-FeOOH。通过质谱测试表明合成实验所得为目标产物S-乙基-L-半胱氨酸。通过电化学测试发现,当浓度<400mg/L时,S-乙基-L-半胱氨酸会促进金属的腐蚀,当浓度>400mg/L时,S-乙基-L-半胱氨酸对金属的腐蚀有一定的抑制作用,结合极化曲线测试得出,S-乙基-L-半胱氨酸是一种阳极型缓蚀剂。红外光谱测试表明,S-乙基-L-半胱氨酸是通过氨基与铁原子键和的方式在金属表面吸附成膜的。