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Y_2O_3是一种稀土氧化物,其薄膜具有优良的物理、化学性能,而且高温抗氧化能力强,可用作金刚石的抗氧化保护涂层。此外,Y_2O_3薄膜的透射率和介电常数较高,因此广泛应用于光电设备和半导体设备中。本文利用磁控溅射的方法在Si(100)衬底和玻璃衬底上制备了 Y_2O_3薄膜,并利用X射线衍射(XRD),扫描电子显微镜(SEM),能量色散X射线光谱(EDX)和紫外可见近红外分光光度计分别对薄膜的结构,表面形貌,成分和光学特性进行了研究。在最佳制备条件下,两种衬底上生长的Y_2O_3薄膜都具有单斜相结