铌、钽等过渡金属碳化物具有高熔点、高硬度、高耐磨性及良好的化学稳定性等优点，被广泛应用在各个领域。NbC和TaC为涂层材料使用不但可以保持基体材料的特性，而且使材料具有NbC和TaC的优良性能和性质。目前，铌和钽的碳化物涂层的制备方法主要包括物理气相沉积法和化学气相沉积法。但是，这两种制备方法普遍存在沉积温度高、工艺复杂等不足，导致涂层和基体间有较大的热应力，容易脱落。因此，以一种工艺简单、能耗相对较低和制备条件相对温和的方式制备高质量碳化物涂层的方法对其更为广泛的工业应用有非常积极的意义。
　　本文采用LiCl-KCl和CaCl2熔盐为电解质，以碳酸盐作为碳源，利用电化学的方法试图在金属Nb、Ta基体表面制备碳化铌和碳化钽涂层材料;使用了电化学脱氧、氧化-电化学脱氧等技术净化、活化基体表面，促进碳化物涂层的生成;分析电化学沉积过程机理;讨论基体的工作温度、碳酸根离子浓度、沉积电压、沉积时间等因素对碳化物涂层制备的影响。研究主要结果如下:
　　在LiCl-KCl和CaCl2熔体中，通过电化学还原碳酸根离子的方法能够在金属铌、钽基体上制备出碳化铌、碳化钽涂层。金属基体表面氧化物和其衍生物含氧酸盐会阻碍电沉积碳和Nb、Ta原子的有效接触，是碳化物涂层形成最突出的制约因素;通过对金属铌、钽基体进行电化学脱氧、氧化-电化学脱氧的方法能够有效的去除基体表面的氧化层，并起到活化基体表面的作用，促进碳化物的形成。提高工作温度有利于NbC和TaC的生成。改变碳酸根离子浓度和沉积电压对碳化物涂层制备过程的影响不大。随着沉积时间的增加，碳化物逐渐形核，长大，并历经Nb2C和Ta2C等中间相，最终生成主要相为NbC和TaC涂层。与LiCl-KCl共晶熔体相比，CaCl2在一定程度上减缓了碳酸根离子的扩散、电还原和碳化反应过程，有利于去除碳化物表面的附着碳。碳化物涂层有效的提高了基体高熔点金属的表面强度。