本文简要地介绍了有关射频超导谐振腔的设计、加工和表面处理工艺技术以及超导材料等重要问题。为北京放射性核束装置计划设计了一个超导四分之一波谐振腔，计算了144兆赫QWR1.5吉赫单室球腔的射频参数。在参加北京大学溅射铌四分之一波谐振腔的研制和直流偏压溅射装置的设计、铌溅射膜样品的测量，以及LNL磁控溅射1.5吉赫超导单室球腔的装置改进、溅射实验、表面处理工艺研究和超导腔射频性能测量等工作中，对溅射铌超导腔的一些技术问题进行了探讨。 在超导RFQ模型腔的铌溅射研究中，编写了专门计算RFQ复杂表面溅射膜沉积情况的软件，结合不锈钢和铜靶的溅射实验，形成了比较简单的四靶溅射方案，完成了纯铌靶的设计。虽然在磁控溅射实验中通过调节溅射气压和靶的位置可以使RFQ表面均匀地沉积铌膜，但样品测量的结果表明，铌溅射膜的质量不足以溅射超导RFQ腔。根据RFQ腔的结构特点设计了溅射靶的旋转机构，通过降低溅射气压和靶的旋转，经过有限几次溅射实验就使整个模型RFQ腔表面铌溅射膜的均匀性和质量接近射频四极超导腔的溅射要求。 作为一种很有潜力的超导腔表面材料，在LNL对V₃Si超导膜材的制备技术和工艺进行了大量实验研究。利用金属钒靶和半导体硅靶的对溅射实验，以及纯钒靶在硅烷气体环境中反应溅射实验中都得到了V₃Si超导膜，但溅射样品需要较高温度的真空热处理并且磁控溅射的V₃Si超导膜在射频超导性能测量中表现出非常高的残余表面电阻。实验研究转入热扩散V₃Si膜，各种基片上磁控溅射的钒膜以及纯钒金属样品在硅烷气体环境中的高温热处理实验得到了性能非常好的V₃Si超导膜。以此为基础，设计并安装了用以热扩散V₃Si超导腔的实验装置。