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用直流电沉积法制备Ag、Ni、Cu金属薄膜及Cu/Ag、Ni/Ag、Cu/Ni金属多层膜,详细研究了制备每种金属薄膜的镀液组成及工艺条件对薄膜微观结构及性能的影响,用自行设计的在线弯曲阴极法测量了工业纯铁和Ni基体上沉积的Cu膜及工业纯铁和Cu基体上沉积的Ni膜的内应力,验证了程开甲提出的电子理论中薄膜内应力来源的相关观点。实验采用硫代硫酸盐无氰镀银工艺,选用AgNO_3和AgBr两种镀液体系在纯铜基体上制备了金属Ag膜。AgNO_3镀液体系中在主盐AgNO_3的含量为45 g·L~(-1)