电镀废水是全球主要的重金属污染源，电镀废水中含有CN^-、Cr（Ⅵ）、Cu²⁺、Ni²⁺及有机污染物。其中CN^-及Cr（Ⅵ）、Cu²⁺、Ni²⁺等重金属离子具有极高的毒性，如不加以处理就直接排放，将会对受纳水体造成严重的污染，因此必须严格控制其排放浓度。通常电镀废水中混有CN^-，一般的方法难以满足去除要求。本论文使用的Fenton—微电解技术，可以有效处理这种混氰型电镀废水。Fenton试剂是由H₂O₂和Fe²⁺混合得到的一种强氧化剂，可以用于氧化电镀废水中的CN^-和COD。本文的微电解技术采用国家专利“多元媒复合处理净化技术”，可以有效去除混氰型电镀废水中的重金属离子。论文首先以广东省惠州市渊泉电镀厂电镀废水为研究对象，进行实验调试，该厂采用Fenton试剂和多元媒复合处理技术组合工艺进行处理。实验过程中，控制综合池进水pH为2～3，用Fenton试剂氧化综合池废水，将其中存在的CN^-和COD去除；出水流经多元媒复合处理净化塔进行处理，可以将其中存在的Cr（Ⅵ）还原为Cr³⁺；用Na₂S进行破络，可以使废水中的络合铜离子转变为Cu²⁺；通过控制沉淀池进水pH，可以将Cr³⁺、Cu²⁺、Ni²⁺等重金属离子沉淀完全。在渊泉电镀厂废水处理实验中后期，又将该工艺运用于健鸿电镀厂进行优化实验。通过实验，确定了工艺运用于健鸿电镀厂废水处理时的最佳工作参数。通过对两个电镀厂的电镀废水处理工艺进行优化实验，确定了Fenton试剂处理这类混氰型电镀废水的最佳运行条件也即[H₂O₂]／[Fe²⁺]的最佳值；研究了多元媒微电解池对废水中Cr（Ⅵ）的去除效果；研究了Na₂S对络合铜离子去除效果；确定了工艺对废水中Cr³⁺、Cu²⁺、Ni²⁺的最佳沉淀条件。研究结果表明：在进水pH值为2～3时，Fenton试剂可以有效去除电镀废水中的CN^-和COD，CN^-的去除率可以达到84.35％，COD的去除率可以达到81.20％；多元媒净化塔对Cr（Ⅵ）去除率可以达到94.38％，对Cu²⁺去除率可以达到93.26％；控制沉淀池进水pH值，使之始终满足pH=10～11，可以使多元媒净化塔出水中的Cr³⁺、Cu²⁺、Ni²⁺沉淀完全，使出水浓度满足满足广东省水污染物排放限值（DB44／26—2001）中第二时段之一级排放标准。