纳米晶二氧化锡复合薄膜的制备及其光催化性能研究

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二氧化锡是一种非常重要的宽能级n型半导体金属氧化物(禁带宽度为3.6 eV)由于其具有良好的气敏性能和独特的光学、电学性能,在气敏元件、气体传感器、电极材料及太阳能电池等多种领域有着广阔的应用前景。然而随着人们对二氧化锡的进一步研究,发现它也是一种很好的光催化剂,越来越多的人将其应用到光催化领域。光催化作用是在具有较高能量的紫外光照射下激发产生的,但是由于二氧化锡具有较宽的能级,因此只有较小波长的紫外光才能激发它的光催化作用,使得其对太阳光的利用率较低。另外,在光催化的过程中发挥关键作用的光生电子-
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