高速电路三维封装的电磁分析与设计

来源 :浙江大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yesw04
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
随着现代电子产品的开发周期越来越短,工作频率越来越高,尺寸越来越小,产品结构越来越复杂,高速电路的电磁干扰(Electromagnetic Interference, EMI)及信号完整性(Signal Integrity, SI)等电磁问题日益突出。如今微电子封装已进入小型化、多功能、立体集成、异质集成阶段,基于硅通孔(through-silicon vias, TSV)技术的转接板由于其高密度互连和高热机械可靠性的优势得到了迅速发展。然而,随着芯片时钟频率达到几百MHz乃至GHz,互连和封装结构内的波导效应必须考虑:高频信号通过电容耦合可以很容易透过硅通孔金属与硅衬底之间的氧化层,从而使其失去隔离作用;密集硅通孔阵列内电流密度很大,会在硅通孔之间产生比较大的电磁串扰;硅通孔的寄生电感增加了整个电源配送网络的阻抗;以及一些新的、垂直方向的电磁干扰问题。这些问题限制了TSV三维封装技术在高速电子系统中的应用。鉴于此,本论文首先研究TSV转接板的全波电磁场建模及其信号传输特性,建立了TSV转接板中GS、GSG、GSSG结构的TSV-Bump-RDL信号通道电路模型,并制作了提取电路模型中各寄生参数值及生成SPICE网表文件实现后续电路/系统级联仿真分析的工业软件,使得现有的建模分析方法在实际工程应用中更加实用,同时分析了不同TSV布局/结构尺寸对信号传输性能的影响。其次,探索了三维封装中多层基板过孔的精确建模及较高精度的寄生参数提取方法。并依据算法制作了一款简单易用的过孔寄生参数提取软件以增加该算法的工程实用性。然后,提出了一种上下表面各有一层金属与硅衬底直接接触的新型双金属面TSV转接板来取代传统的金属层与硅衬底之间使用隔离层的“三明治”转接板结构,以避免垂直方向上形成的金属-隔离层-半导体电容效应。研究表明,其拥有更佳的信号传输性能,并可以消除谐振问题。同时,基于镜像方法,得到了其寄生参数提取方法和等效电路模型。最后,在能够消除低阻硅衬底损耗,降低制作工艺复杂度和生产成本而有望成为硅衬底替代品的玻璃衬底研究热潮中,针对毫米波/THz频段,研究了基于玻璃通孔(Through Glass Via, TGV)技术的低EMI紧凑型基片集成波导设计方法。
其他文献
高动态范围(HDR)图像是一种亮度范围非常广的图像,能更好地记录和展现场景中的明暗细节,在众多领域有广阔的应用前景和需求。目前专业高动态成像系统造价昂贵,而普通相机拍摄的
文中所例举的优秀灯具设计,造型独特、工艺巧妙、寓意深刻,这些灯具既将功能和形式的关系处理的恰到好处,还把古代人追求"天人合一"的境界充分表现出来,其设计美学理念合理科
作为一门集工程技术与美学艺术于一体的综合性学科来说,艺术设计具有一整套的设计原理和体系,其追求的是设计内容与设计形式的完美统一。这是人类社会发展的必然结果,也是人
计算机仿真技术是指应用计算机软件,采用相应的数据处理系统,来模拟仿真另外一个数据系统或者实验平台,目的是让模拟仿真的结果能真实反映被仿真的系统,以便缩短产品的开发周期和
基于透明非晶氧化物半导体(AOS)的薄膜晶体管以其优异的特性被认为在AMOLED显示中具有很大的应用潜力,特别是相比众多AOS材料体系,ZnO掺杂体系材料表现了更加优异的光电特性。而
LD泵浦的高重频、窄脉冲激光器,具有峰值功率高、光束质量好等优点,从而被广泛应用于军事、医疗、精密加工等领域,成为当今科研领域的研究热点。879nm LD的热负载比比较的小,能够
ZnO是一种新型的直接带隙宽禁带Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体材料,室温下禁带宽度为3.37eV,激子结合能为60meV。通过掺杂Ⅲ族元素(如Al、Ga、In),ZnO的电导率可以提高几个数量级,是一种典型
随着数模混合信号系统的广泛应用,作为数字域和模拟域接口的ADC系统,其应用领域也越来越广,系统对ADC的要求也越来越高。在很多电路系统设计中,ADC已经成为制约系统工作频率的瓶
对光信号的测量主要包括模拟记录技术和光子计数技术,而光子计数技术在弱信号探测时有着更高的信噪比,在此基础上发展而来的时间相关单光子计数技术(Time-correlated single ph
激光诱导击穿光谱(Laser Induced Breakdown Spectroscopy, LIBS),是一种基于原子发射光谱和激光等离子体发射光谱原理进行样品中元素成分分析的先进光谱技术,该技术不需要对