【摘 要】
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化学镀镍是一项已获得广泛应用的无电沉积方法，同电沉积相比，它有操作简便、设备条件要求低、镀层均匀等优点，其发展势头迅猛，前程未可限量。因此，对化学镀镍的研究和开发具有重要意义。 在铜、黄铜材料表面上实施化学沉积，必须先对基体进行诱发。本文通过大量实验，对几种诱发材料与过程进行分析，研究确定了简便有效的诱发方法，以及与之相匹配的化学镀Ni-P合金溶液优化配方和工艺条件，讨论了各工艺参数对镀速的
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化学镀镍是一项已获得广泛应用的无电沉积方法，同电沉积相比，它有操作简便、设备条件要求低、镀层均匀等优点，其发展势头迅猛，前程未可限量。因此，对化学镀镍的研究和开发具有重要意义。 在铜、黄铜材料表面上实施化学沉积，必须先对基体进行诱发。本文通过大量实验，对几种诱发材料与过程进行分析，研究确定了简便有效的诱发方法，以及与之相匹配的化学镀Ni-P合金溶液优化配方和工艺条件，讨论了各工艺参数对镀速的影响，并对铜及黄铜基体上得到的Ni-P沉积层进行了性能和结构分析，得到外观光亮完整
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