Al<,2>O<,3>与LaF<,3>薄膜在193nm波段的特性研究

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近年来,准分子激光器快速发展,并得到广泛应用,推动了紫外薄膜研究的发展。大多数材料在紫外波段呈献明显的吸收,目前对193nm紫外薄膜的研究主要集中在氟化物和少数的氧化物上。氧化物和氟化物在短波吸收、表面微结构、结晶状况、光学稳定性、应力等方面有较大的差异。本课题以193nm薄膜中主要的高折射率材料氟化物LaF_3和氧化物Al_2O_3为研究重点,对比研究了沉积速率和基板温度等工艺因素对薄膜各项特性的影响。课题设计分析了多层介质高反射膜的光学特性。对比了Al_2O_3和LaF_
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