两模腔场谱间的量子干涉

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本论文重点研究了两模腔场谱间的干涉效应对谱结构的影响。在研究工作中把入射光场选定为二项式态,通过改变两模入射光场间频率差△的大小,来对比研究两模腔场谱间的量子干涉现象。  在本论文中首先研究了,依赖强度耦合J-C模型与双模二项式光场相互系统中腔场谱间的干涉效应。通过改变两模光场间的频率差,发现:在g﹤△≤g6(g为原子与腔场的耦合常数)时,两模光场间的量子干涉对腔场谱强度的影响不明显,可以忽略;在△≤g时,发现两模光场间的量子干涉对腔场谱结构有着十分明显的影响。  接着讨论了具有偶极相互作用的两等同二能级原子与双模二项式光场相互作用过程的腔场谱。研究结果显示:在两模光场频率差1.4≤△≤6g时,两模光场间的干涉效应对腔场谱强度的影响比较明显;在△≤1.4g时,发现两模光场间的干涉效应对腔场谱结构有着十分明显的影响,尤其当△从1.4g逐渐减少时模I和模II的三个主峰开始逐渐重叠,两模腔场谱之间出现了十分明显的干涉现象。  最后对存有Kerr介质包围的耦合二能级原子与双模二项式光场相互作用系统做了讨论。结果显示Kerr介质对两模间的干涉效应有着十分明显的抑制作用,由于Kerr介质的存在,使得腔场谱的谱线更加分散,强度相对减弱,两模腔场谱间的干涉效应只有在△≤0.5g时才较明显出现。  通过对单、双原子同双模二项式光场之间的相互作用的讨论,发现在讨论两模腔场谱时,对于不同的研究对象两模腔场谱间的干涉效应出现的条件也不同,两模腔场谱间的干涉效应不能被忽略。
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