NiFe和NiFe-Cu-NiFe巨磁阻抗薄膜的制备与性能

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本文采用直流磁控溅射方法分别制备了NiFe单层软磁薄膜和NiFe-Cu-NiFe三层薄膜。使用掠入射X射线分析(GIXA)技术对不同NiFe薄膜的相结构进行了研究;利用XRD-ω扫描及不同ω角度的2θ扫描对薄膜进行了结晶织构及残余应力分析;运用薄膜横断面的扫描电子显微镜(SEM)观察和小角X射线散射(SAXS)技术测量了薄膜的厚度;采用振动样品磁强计测量了不同NiFe软磁薄膜的磁性能;最后利用自行组建的巨磁阻抗性能测试设备测量了NiFe-Cu-NiFe三明治结构薄膜的巨磁阻抗。XRD物相分
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