信息时代对器件的微型化、轻量化、集成化的迫切需求，极大地推动了微细加工技术的发展，以微光学、微电子、微机械为基础的MEMS和MOEMS技术已在航空航天、光纤通信、光互联、光计算等高科技诸多领域展现出十分广阔的应用前景，将对本世纪的军事、工业生产、以及人们的生活产生深远影响。源于VLSI的平面光刻工艺用于制作微光学、MEMS、MOEMS器件的三维连续面型受到很大的局限。本文研究一种制作任意三维连续微结构的实时掩膜光刻技术。结合投影光刻系统的并行性和可编程数字化液晶显示器件的灵活性提出并建立了液晶显示实时掩膜光刻系统；提出了基于等高面和基于灰度量化的两种实时掩膜产生方法，编制了相应的计算软件；根据实时掩膜的特点，提出从三个方面对掩膜进行精细校正的方法，包括图形边缘灰度处理对掩膜图形的边缘优化，预畸变掩膜图形对空间像传递的非线性校正，调节每幅图形的曝光时间对曝光，显影和刻蚀的非线性校正，并且讨论了象素栅格对制作结果的影响；提出并研究了生化酶化学湿法刻蚀卤化银明胶形成连续深浮雕的新技术；最后基于部分相干光成像理论进行了模拟以及应用实时掩膜和酶蚀技术研制成功微透镜阵列，微柱透镜阵列，微轴锥镜阵列，锯齿形光栅等多种微光学器件。本项技术具有不受限于任意三维面型结构，不需要常规掩膜，从而不存在对位误差，并可对掩膜图形实时修改和不需要昂贵设备以及制作周期短等优点，为产生任意三维连续微结构提供了一条有效的新途径，对发展微光学、MOEMS有重要意义。