40nm栅极的APC技术开发

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据《Semiconductor FPD World》2003年第12期报道,日本富士通和富士通研究所为了提高90nm尺寸IC的量产水平,开发了可精细加工CMOS晶体管栅电极的自适应工艺控制(APC)技术。该技术在光刻过程中可自动测定光刻胶状况,并将结果自动前馈(feedforward)于下 According to “Semiconductor FPD World” 2003 the twelfth report, Japan’s Fujitsu and Fujitsu Research Institute in order to improve the 90nm size IC production levels, the development of the SCR process can be fine-grained gate electrode adaptive process control (APC) technology. The technology automatically measures resist conditions during lithography and automatically feeds the results down
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