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利用Ａｌ－Ｎ－Ｏ选择性吸收层之间产生的干涉效应，改善吸收表面挑学性能（吸收率α和发射率ε），通过工艺确定了２种不同金属填充因子的双吸收层结构，与多层渐变吸收表面相比双吸收层结构吸收表面具有膜系结构简单、高温下性能稳定、发射率较低等优点，吸收表面的吸收率α为０．９３￣０．９５，发射率ε（３５３Ｋ）为０．０４￣０．０６。