【摘 要】
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微纳掩模制作是进行刻蚀、沉积和改性等微纳加工工艺之前的主要工艺,是微纳米加工过程中的关键步骤和基础。高质量、柔性、低成本、高效的掩模制作对微/纳机电系统(MEMS/NEMS
【机 构】
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浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室,清华大学精密测试技术及仪器国家重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(61671271,51705283);北京市自然科学基金资助项目(L172040);国家重大科学研究计划资助项目(2013CB934200)
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微纳掩模制作是进行刻蚀、沉积和改性等微纳加工工艺之前的主要工艺,是微纳米加工过程中的关键步骤和基础。高质量、柔性、低成本、高效的掩模制作对微/纳机电系统(MEMS/NEMS)、微米纳米技术、微/纳电子芯片、半导体器件等领域的科研和生产都具有非常重要的意义。目前,直写技术是一种可以不依赖掩模板和印模的掩模图案制造技术,其制作工艺较为简单,具有较高的掩模制作精度和柔性度,已成为微纳掩模制作的重要发展方向。综述了国内外各种主要的基于直写技术的微纳掩模制作技术,并归纳了其技术特点,展望了其发展趋势。
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