【摘 要】
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为研究本底真空对Yb/Al多层膜微结构和光学性能的影响,使用直流磁控溅射设备,在本底真空度分别为4×10-5 Pa、8×10-5 Pa、1×10-4 Pa、2×10-4 Pa和4×10-4 Pa条件下,制备了一组结构相同的SiC/(Yb/Al)3周期多层膜.使用X射线掠入射反射、原子力显微镜及大角X射线衍射等方法表征了样品表面和内部结构,结果表明:当本底真空度从4×10-4 Pa提高至4×10-5 Pa时,Yb/Al多层膜的平均界面宽度从2.15 nm减小到1.82 nm;表面粗糙度从1.87 nm减小到
【机 构】
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上海大学 物理系,上海 200444;同济大学 物理科学与工程学院 精密光学工程技术研究所,上海 200092;先进微结构材料教育部重点实验室,上海 200092
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为研究本底真空对Yb/Al多层膜微结构和光学性能的影响,使用直流磁控溅射设备,在本底真空度分别为4×10-5 Pa、8×10-5 Pa、1×10-4 Pa、2×10-4 Pa和4×10-4 Pa条件下,制备了一组结构相同的SiC/(Yb/Al)3周期多层膜.使用X射线掠入射反射、原子力显微镜及大角X射线衍射等方法表征了样品表面和内部结构,结果表明:当本底真空度从4×10-4 Pa提高至4×10-5 Pa时,Yb/Al多层膜的平均界面宽度从2.15 nm减小到1.82 nm;表面粗糙度从1.87 nm减小到1.43 nm;膜层内有Yb、Yb2O3和Al结晶,结晶尺寸随真空度略有增加.SiC/(Yb/Al)3周期多层膜为张应力,当本底真空度从4×10-4 Pa提升至4×10-5 Pa时,应力从85 MPa增大到142 MPa.测试了本底真空度为4×10-5 Pa时制备的多层膜样品的反射率,在波长为73.6 nm、入射角为5°时,反射率为31.3％.
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