【摘 要】
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高能脉冲磁控溅射技术（HIPIMS）以峰值功率密度高，金属离化率高为特点，较传统直流磁控溅射（DCMS）具有其独有的优势。将高能脉冲磁控溅射（HIPIMS）应用于晶态薄膜的沉积，可大大降低制备温度，简化制备工艺，实现基底材料的扩展，提升薄膜的应用空间。综述了以Al2O3、VO2、TiO2为代表的晶态薄膜的HIPIMS低温沉积工艺及其结构性能，探讨了薄膜低温结晶的机理，展望了HIPIMS未来的研究方
【机 构】
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东南大学材料科学与工程学院江苏省先进金属材料重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（51771052，51001026）；
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高能脉冲磁控溅射技术（HIPIMS）以峰值功率密度高，金属离化率高为特点，较传统直流磁控溅射（DCMS）具有其独有的优势。将高能脉冲磁控溅射（HIPIMS）应用于晶态薄膜的沉积，可大大降低制备温度，简化制备工艺，实现基底材料的扩展，提升薄膜的应用空间。综述了以Al2O3、VO2、TiO2为代表的晶态薄膜的HIPIMS低温沉积工艺及其结构性能，探讨了薄膜低温结晶的机理，展望了HIPIMS未来的研究方向和应用前景。
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