热处理对V2O5薄膜的结构及光学性能的影响

来源 :第十一届全国薄膜学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：linyibaby

【摘要】

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用射频平面磁控溅射法在Ar/O2气氛中溅射V2O5粉末靶制得V2O5薄膜,然后在大气中对样品薄膜作250℃～400℃的热处理试验.用XRD分析表明薄膜随着热处理温度的升高,除了晶粒尺寸不

【作者】

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汤兆胜范正修邵建达

【机构】

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中国科学院上海光学精密机械研究所(上海)

【出处】

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第十一届全国薄膜学术交流会

【发表日期】

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2001年11期

【关键词】

：

光学性能热处理 V2O5薄膜结构变化

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用射频平面磁控溅射法在Ar/O2气氛中溅射V2O5粉末靶制得V2O5薄膜,然后在大气中对样品薄膜作250℃～400℃的热处理试验.用XRD分析表明薄膜随着热处理温度的升高,除了晶粒尺寸不断长大以外,薄膜的组分也在发生不断的变化,在低温下处理时出现的某些结构在高温处理后消失,同样在高温下处理后也出现了一些低温下没有出现的新结构.这种结构变化导致在300℃以下的温度处理后的薄膜在可见光和近红外波段都有异常大的吸收;在350℃以上的温度处理后的薄膜在可见光和近红外波段的吸收显著地减小.

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