【摘 要】
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使用含硅合金熔体对TiAl基合金进行了表面渗硅处理,渗硅处理温度范围是:913～1053K.实验发现,TiAl基合金与Al-Si熔体之间发生了界面反应,界面生成以Si,Ti,Al三元素为主的灰白色
【机 构】
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北京航空材料研究院焊接与锻压工艺研究室
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使用含硅合金熔体对TiAl基合金进行了表面渗硅处理,渗硅处理温度范围是:913～1053K.实验发现,TiAl基合金与Al-Si熔体之间发生了界面反应,界面生成以Si,Ti,Al三元素为主的灰白色基体和条状、小块状黑色相.表面处理后样品经1173K/100h高温氧化后,表层形成了Al2O3、SiO2等致密的氧化膜,并保留有稳定的Si-Ti-Al相,因而改善了表面氧化层结构,大大增强了 TiAl基合金的高温抗氧化能力.
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