【摘 要】
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本文对宽束离子束刻蚀技术进行了研究，并运用宽离子束对微透镜阵列进行了刻蚀，表明宽离子束可进行微米、亚微米刻蚀。
In this paper, the wide beam ion beam etching techni
【机 构】
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浙江大学现代光学仪器国家重点实验室
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本文对宽束离子束刻蚀技术进行了研究，并运用宽离子束对微透镜阵列进行了刻蚀，表明宽离子束可进行微米、亚微米刻蚀。
In this paper, the wide beam ion beam etching technique is studied, and the microlens array is etched using a wide ion beam, indicating that the wide ion beam can be micron and submicron etching.
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