【摘 要】
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介绍了一种基于碳纳米管场发射的新型微焦点电子源技术.利用激光烧蚀镍金属表面使内部未氧化的镍金属熔化喷出暴露于基底表面,再通过化学气相沉积制备出直径约为350μm的半球壳型碳纳米管薄膜阴极.场发射测试表明,电子源具有低开启电场(<1V/μm)、高发射电流(可达1A/cm2)和高压强发射稳定等特点.通过复合石墨烯和750℃真空高温退火,高压强发射稳定性得到进一步提高.该工作提供了一种制备强流微尺度场发射阴极的有效途径.
【机 构】
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温州大学 温州市微纳光电器件重点实验室,浙江 温州 325035
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介绍了一种基于碳纳米管场发射的新型微焦点电子源技术.利用激光烧蚀镍金属表面使内部未氧化的镍金属熔化喷出暴露于基底表面,再通过化学气相沉积制备出直径约为350μm的半球壳型碳纳米管薄膜阴极.场发射测试表明,电子源具有低开启电场(<1V/μm)、高发射电流(可达1A/cm2)和高压强发射稳定等特点.通过复合石墨烯和750℃真空高温退火,高压强发射稳定性得到进一步提高.该工作提供了一种制备强流微尺度场发射阴极的有效途径.
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