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编号：0501312等离子体增强化学气相沉积(PCVD)技术是在一定温度和气压的真空炉内通人工作气体，产生辉光放电，激活沉积反应，从而在基材表面形成耐磨损、抗氧化的陶瓷涂层。该项目为PCVD工业生产设备及模具强化成套技术，在设备总体结构的优化设计、逆变式脉冲直流等离子体技术、脉冲直流PCVD法制备高性能TIN陶瓷涂层和表面强化技术等方面均具有创新性。