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光刻胶图形塌陷机理＝Ｍｅｃｈａｎｉｓｍｏｆｒｅｓｉｓｔｐａｔｔｅｒｎｃｏｌｌａｐｓｅ［刊，英］／Ｔａｎａｋａ，Ｔ，…／／Ｊ．Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ，Ｓｏｃ，－１９９３，１４０（７）．－１１５～１１６采用原子力显微镜对清洗液中的图形进行测量来研究光刻胶...
光刻胶图形塌陷机理
【摘 要】
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光刻胶图形塌陷机理＝Ｍｅｃｈａｎｉｓｍｏｆｒｅｓｉｓｔｐａｔｔｅｒｎｃｏｌｌａｐｓｅ［刊，英］／Ｔａｎａｋａ，Ｔ，…／／Ｊ．Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ，Ｓｏｃ，－１９９３，１４０（７）．－１１５～１１６采用原子力显微镜对清洗液中的图形进行测量来研究光刻胶...
【出 处】
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微电子学
【发表日期】
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1994年04期
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