IMA离化率补偿曲线及定量深度分析

来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tjpu0510420215
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近来,IMA中发展了一种高精度定量分析方法,即离化率补偿曲线法。本文以Si(B)样品为例,给出了在低氧区的离化率补偿曲线((K_B)/(K_(Si))-(I_(SiO~+))/((I_(TSiO)))/(I_(Si~+))/(I_(TSi)))并提出一种高精度定量测定表层深度剖面图的方法。 Recently, IMA has developed a high-precision quantitative analysis method, that is, the ionization rate compensation curve method. In this paper, taking the Si (B) sample as an example, the ionization rate compensation curve (K_B / K_ (Si)) - (SiO_ +) / (I_ (TSiO) )) / (Si ~ +) / (TS)) and propose a method for quantitatively determining the depth profile of surface layer.
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