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使用直流磁控溅射方法，Ar/N2作为放电气体，在玻璃衬底上沉积FexN薄膜，利用X射线光电子能谱（XPS），掠入射小角X射线散射（GISAXS），X射线衍射（XRD），掠入射非对称X射线衍射（GIAXD）和原子力显微镜（AFM）研究薄膜的成分和生长机制，实验结果表明，在5％N2流量下获得FeN0.56单相化合物，薄膜中氮原子含量为14％，该值与α＂－Fe16N2相中的氮原子的化学计量（11％）接近，GISAXS和AFM对薄膜表面分析表明，随溅射时间增加，薄膜变得愈加不光滑，用动力学标度的方法定量分析结果为