【摘 要】
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针对现有随焊锤击装置电磁锤锤击频率低(1～3Hz),难以满足生产要求的现状,该文开发了双电磁机构锤击系统。以电磁理论为基础,设计了双电磁锤击装置;以AT89C52单片机为控制核心,
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针对现有随焊锤击装置电磁锤锤击频率低(1～3Hz),难以满足生产要求的现状,该文开发了双电磁机构锤击系统。以电磁理论为基础,设计了双电磁锤击装置;以AT89C52单片机为控制核心,设计了高频锤击控制电路、键盘输入及显示电路,并对程序进行调试、试验。试验表明:锤击装置可实现6～8Hz的高频锤击;与对照组相比,当锤击频率为3Hz时,魏氏组织晶粒视场面积为原来的23.9%,晶粒仍较大,组织性能改善不太明显;当频率为7Hz时,魏氏组织晶粒视场面积为原来的3.8%,组织明显得到细化,晶粒细小,组织的塑性韧性提高,改善了焊缝的力学性能。
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