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多晶硅薄膜晶体管泄漏电流建模研究与进展
多晶硅薄膜晶体管泄漏电流建模研究与进展
来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cpts
【摘 要】
:
泄漏电流是多晶硅薄膜晶体管应用的一个主要问题。多晶硅薄膜晶体管泄漏电流的建模对集成多晶硅薄膜晶体管设计和工艺改进具有重要意义。总结了多晶硅薄膜晶体管泄漏电流建模
【作 者】
:
胡云峰
李斌
吴为敬
【机 构】
:
华南理工大学微电子研究所
【出 处】
:
微电子学
【发表日期】
:
2008年3期
【关键词】
:
多晶硅
薄膜晶体管
泄漏电流建模
Polycrystalline silicon
Thin film transistor (TFT)
Leakage cur
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泄漏电流是多晶硅薄膜晶体管应用的一个主要问题。多晶硅薄膜晶体管泄漏电流的建模对集成多晶硅薄膜晶体管设计和工艺改进具有重要意义。总结了多晶硅薄膜晶体管泄漏电流建模思想,并对三种基于不同物理机制的典型模型进行了评述,分析讨论了其优缺点;最后,对当前建模工作进行了总结与展望。
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