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应用光刻和薄膜沉积技术,制作了多级衍射光学元件.对制作误差和影响误差的因素进行了分析.给出了改善对准误差的标校方法,并在实际的多级衍射光学元件制作过程中得到验证.
薄膜沉积多级衍射光学元件的微型制作与误差标定的研究
【摘 要】
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应用光刻和薄膜沉积技术,制作了多级衍射光学元件.对制作误差和影响误差的因素进行了分析.给出了改善对准误差的标校方法,并在实际的多级衍射光学元件制作过程中得到验证.
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室
【出 处】
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光学精密工程
【发表日期】
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2004年期
【基金项目】
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国家自然科学基金;
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