光化学蚀刻中图文转移工艺的研究

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研究了烘烤时间、烘烤温度、曝光时间对图文转移中光刻胶留膜厚度的影响。实验结果表明:留膜厚度随烘烤时间增加而先增加后降低;留膜厚度随烘烤温度、曝光时间的增加呈先增加后平缓的趋势。通过实验得到最佳工艺条件为:烘烤时间35min,烘烤温度90℃,曝光时间6 s。 The influence of baking time, baking temperature and exposure time on the thickness of photoresist remained in the transfer process was studied. The experimental results showed that the thickness of the retained film increased first and then decreased with the increase of the baking time. The thickness of the retained film increased firstly and then gradually with the increase of baking temperature and exposure time. The optimum conditions of the experiment are: baking time 35min, baking temperature 90 ℃, exposure time 6s.
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