酞菁铜旋涂薄膜的形貌与光谱学性质研究

来源 :光散射学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：fdiskhotmail

【摘要】

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采用旋涂法制备了2,9,16,23-四-异丙氧基酞菁铜(CuPc(OC3H7-i)4)薄膜,利用AFM、UV-Vis和FT-IR对薄膜的表面形貌和光谱学性质进行了表征.薄膜表面结构是由约为216nm×55nm

【作者】

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李强霍丽华高山赵经贵

【机构】

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黑龙江大学

【出处】

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光散射学报

【发表日期】

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2003年3期

【关键词】

：

酞菁铜旋涂薄膜表面形貌光谱学性质有机半导体气敏材料 copper phthalocyanine derivative spin-coating film

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采用旋涂法制备了2,9,16,23-四-异丙氧基酞菁铜(CuPc(OC3H7-i)4)薄膜,利用AFM、UV-Vis和FT-IR对薄膜的表面形貌和光谱学性质进行了表征.薄膜表面结构是由约为216nm×55nm×4nm的清晰纳米畴组成,旋涂膜中酞菁铜分子是处于一种无序的状态,其Soret带吸收与氯仿溶液相比位置不变,而Q带的聚集体和单体的吸收峰红移约20nm.

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