高精度数控化学抛光技术

来源 :中国工程物理研究院科技年报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:talen
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用已有的刻蚀发生器与AD250数控抛光设备进行有效地整合,建立了定域数控刻蚀平台,此实验平台在基片装夹和软件编程上都得到了一定提高,可以根据事先检测基片的干涉图在任意区域内进行编程加工,由于AD250数控抛光设备能够实现三维坐标控制,对刻蚀区域的大小和刻蚀深度可通过编程来实现,完全实现了数字控制加工的目的。在前期实验工作的基础上,根据Marangoni界面效应理论对刻蚀发生器进行改进,改进后的装置在Marangoni效应的稳定上有了很大提高,可以持续不间断的使被加工基片的区域保持Marangoni效应,由
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