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利用化学溶液途径成功地制备出了符合化学计量比的钼酸钙多晶薄膜。通过旋涂技术将薄膜沉积在Si（100）或载玻片上，并利用SEM技术表征了薄膜的表面形貌，以及薄膜的表面随退火温度变化的特征。X射线衍射结果显示，在溶液中，钼酸钙化合物就已直接生成而不需经过任何中间过程。退火温度对钼酸钙薄膜微观结构的影响研究表明，当退火高于550℃时薄膜的生长具有择优取向特征。钼酸钙薄膜的拉曼光谱测试结果进一步表明了钼酸钙薄膜的四方相结构特征以及薄膜微观结构的均一性。此外，本文还报道了不同温度下测得的钼酸钙薄膜在紫外光激发下的光