水中无机阴离子对UV/H2O2降解LAS的影响及机理

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研究了UV/H2O2工艺对直链烷基苯磺酸钠(LAS)的去除效果以及水中常见无机阴离子对LAS降解的影响和机理.结果表明,UV/H2O2工艺可以有效的去除水中LAS,光降解过程符合一级反应动力学模型.在H2O2投加量为8 mg·L^-1,14 W低压汞灯照射下,LAS在蒸馏水和自来水中光降解速率常数分别为0.0180 min^-1和0.0122 min^-1;NO3-、Cl-、SO42-和HCO3-对LAS光降解有抑制作用,4种离子在浓度分别为5、10、15 mmol·L^-1时,对LA
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