【摘 要】
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利用微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)法,在经处理的单晶硅衬底上沉积了纳米非晶碳薄膜.通过Raman、SEM、XRD表征,研究了催化剂对纳米非晶碳膜的生长速率及场发射性能的
【机 构】
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郑州航空工业管理学院数理系,郑州大学材料物理教育部重点实验室
【基金项目】
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河南省基础与前沿技术研究计划;航空基金;河南省教育厅自然科学基础研究计划
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利用微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)法,在经处理的单晶硅衬底上沉积了纳米非晶碳薄膜.通过Raman、SEM、XRD表征,研究了催化剂对纳米非晶碳膜的生长速率及场发射性能的影响.结果表明,在制备纳米非晶碳膜时使用FeC13,作为催化剂可大幅提高其生长速率.在相同的制备条件下,与未加FeCl3催化剂制备的纳米非晶碳膜的场发射性能相比,加催化剂制备的碳膜开启电场降至0.5 V·μm-1;在1.8 V·μm-1的电场下,电流密度可以达到2.6 mA·cm-2,而且发射点密度较大、分布均匀.
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