铜物理显影动力学和机理——电化学探讨

来源 :感光科学与光化学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:werr2000
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本文采用镀铜铂电极和暂态恒电流阶跃的方法测得了铜物显(铜物理显影)体系的极化曲线。结果表明,单电极Cu~(2+)还原的阴极极化曲线与NaBH_4氧化的阳极极化曲线交点的混合电位E_(mp)=—715mV,对应的i_R为8.9×10~(-4)Acm~(-2)。这与直接测得的铜物显体系的E_(mp)=—720mV,和i_R=8.7×10~(-4)Acm~(-2)很相近。这意味着应用混合电位理论来分析铜物显过程是合理的。在铜物显的混合电极系统中,Cu~(2+)还原的阴极反应与BH_4~-氧化的阳极反应相互影响很小。当镀铜电极表面涂有明胶时,反应速率降低(6.09μgcm~(-2)min~(-1)),与动力学测得的结果(4.82μg cm~(-2) min~(-1))比较接近,而在不涂明胶的电极上反应速率则大得多(17.12 μg cm~(-2) min~(-1)),这表明了明胶对物显过程的显著影响。根据Tafel方程,从极化曲线斜率可求碍转移系数α=0.48,并推测铜沉积过程是两步单电子转移反应,且第一个电子的转移是控制步骤。
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